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金屬靶材
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高純金屬靶材
貴金屬靶材
合金靶材
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鉻合金靶材
鋁合金靶材
鎳合金靶材
陶瓷靶材
+
蒸發(fā)材料
+
金屬蒸發(fā)材料
化合物蒸發(fā)材料
蒸發(fā)坩堝材料
綁定服務(wù)
+
氧化鈦陶瓷靶材
氧化鈦旋轉(zhuǎn)靶采用等離子噴涂工藝制得,尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。
氧化鈦平面靶采用熱壓燒結(jié)工藝制得,一般綁定在銅背板上使用,尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。
純度:99.99%;電阻率(20°C): ≤ 0.3Ω.cm。
應(yīng)用領(lǐng)域:光學(xué)玻璃鍍膜,LOW-E鍍膜玻璃,薄膜太陽(yáng)能鍍膜、平板顯示鍍膜、裝飾鍍膜。
詳細(xì)資料點(diǎn)擊下載
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