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氧化鈦陶瓷靶材



氧化鈦旋轉(zhuǎn)靶采用等離子噴涂工藝制得,尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。
氧化鈦平面靶采用熱壓燒結(jié)工藝制得,一般綁定在銅背板上使用,尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。


純度:99.99%;電阻率(20°C): ≤ 0.3Ω.cm。
應(yīng)用領(lǐng)域:光學(xué)玻璃鍍膜,LOW-E鍍膜玻璃,薄膜太陽(yáng)能鍍膜、平板顯示鍍膜、裝飾鍍膜。


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